삼성전자·SK하이닉스 반도체 기술 中에 빼돌린 산업스파이 징역 1년
삼성전자·SK하이닉스 반도체 기술 中에 빼돌린 산업스파이 징역 1년
  • 조경호 기자
  • 승인 2023.09.14
  • 댓글 0
이 기사를 공유합니다

HKMG(High-K Metal Gate) 공정을 적용해 개발된 SK하이닉스의 LPDDR5X @SK하이닉스
HKMG(High-K Metal Gate) 공정을 적용해 개발된 SK하이닉스의 LPDDR5X @SK하이닉스

[한국증권_조경호 기자] 삼성전자·SK하이닉스 반도체 기술을 중국업체에 빼돌린 산업스파이에 법원이 징역 1년을 선고했다. 

13일 서울중앙지법 형사25-3부(지귀연·박정길·박정제 부장판사)는 13일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 부사장 신모씨에게 징역 1년을 선고했다. 다만 법정구속하지 않았다. 법인에 벌금 4억원이 선고했다. 함께 기소된 직원 7명에게는 징역 8개월에서 1년 6개월의 집행유예나 벌금형 등의 판결을 내려졌다.

재판부는 "국가핵심기술인 HKMG 관련 공정 기술을 유출했다. 세메스 정보를 몰래 취득해 초임계 세정장비를 개발한 것도 공정한 경쟁질서를 위협한다"며 "국가 핵심 기술을 해외로 유출하는 범행은 상당히 무겁고 죄질이 좋지 않다"고 판시했다.

다만 "개인정보보호의 감수성이나 위법성 인식이 상당히 약했던 것으로 보이고, 일반 산업 스파이가 해외로 유출하는 것과는 궤를 달리한다"며 양형 이유를 밝혔다.

신씨는 2017년 3월부터 2020년 8월까지 삼성전자 자회사 세메스 전직 직원 등으로부터 반도체 세정정비 관련 기술을 취득해 중국에 수출하는 세정장비 개발에 사용한 혐의로 기소됐다.

신씨와 함께 기소된 A사 연구소장 등은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조기술, 반도체 세정 레시피 등 첨단기술과 영업비밀을 중국 반도체 업체에 누설한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

 

 


댓글삭제
삭제한 댓글은 다시 복구할 수 없습니다.
그래도 삭제하시겠습니까?
댓글 0
댓글쓰기
계정을 선택하시면 로그인·계정인증을 통해
댓글을 남기실 수 있습니다.